X射线荧光镀层测量原理

X射线荧光

符合 DIN ISO 3497 和 ASTM B 568 标准的能量色散式 X 射线荧光分析 (XRFA)

 

测量方法：

X 射线荧光分析的基础在于，当材料样品中的原子被初级 X 射线激发时，来自最内层电子层的电子将释放出来；所产生的空位由来自外层电子层的电子填充。

 

Atomic model for the X-Ray Fluorescence Analysis method.

在电子跃迁的过程中，每种元素都会产生其特有的特征X射线荧光辐射。探测器可接收到该荧光辐射并能据此给出样品成分的相关信息。
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