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在金相试样制备过程中，试样的磨光是必不可少的工序。试样的磨光一般分粗磨和精磨两道工序。粗磨的目的是为了获得一个平整的表面，精磨的目的是为了消除这些磨痕，以得到平整而光滑的磨面为下一步的抛光做准备。 |
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磨抛盘直径
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φ203mm（可定制φ230mm、φ250mm）
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磨抛盘转速
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左盘: 300r/min （低速）、600r/min（高速）
右盘: 500r/min（低速） 、1000r/min（高速） |
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输入电压
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三相380V 50Hz
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输入功率
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0.55KW
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外形尺寸
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730×765×320mm
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重 量
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50Kg
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四、标准配置
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名称
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数量
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备注
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磨抛盘Φ203
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2个
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已安装在设备上
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挡水圈
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2个
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已安装在设备上
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压圈
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2个
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已安装在设备上
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砂纸
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2张
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Φ203mm
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抛光布
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2张
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Φ203mm
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进水管
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1根
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Φ12
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出水管
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1根
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Φ32
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随机资料
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1份
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